无惧第三方挑战:贺利氏成功捍卫基本专利[CSIA]
 
 
无惧第三方挑战:贺利氏成功捍卫基本专利
更新时间:2018-4-9 16:11:14  
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经中国国家知识产权局专利复审委员会审理,德国科技集团贺利氏成功捍卫了两项涉及电解质电容器生产方法的专利——CN101263568B和CN101263569B。
  
  “贺利氏非常感谢中国国家知识产权局做出正确裁定。我们坚决反对他方侵犯我方专利,并支持贺利氏客户打击假冒电容器产品。”贺利氏高级副总裁BerndStenger坚定地表示。
  
  作为导电聚合物领域的技术领导者,贺利氏拥有50多个专利族,以保护其在固态电容、导电涂层以及其它有机电子相关领域的重要发明。
  
  贺利氏推出的基于聚乙稀二氧噻吩(PEDOT)的水性导电聚合物产品CLEVIOSK,为钽电容器和铝电容器的创新设计提供了更多的可能性。过去十年内,即便是在恶劣的环境条件下,电容器的电容、串联电阻和高稳定性等性能也能持续保持稳定。同时,电容的生产流程也在不断优化,从而进一步帮助客户提高产量。
  
  近期,两项在中国经过授权的贺利氏基本专利受到了第三方的挑战。这两项专利涉及采用颗粒尺寸为1至100纳米的导电聚合物分散体生产电解质电容器的方法。中国国家知识产权局专利复审委员会驳回了第三方质疑贺利氏专利有效性的诉讼,裁定专利的原有授权仍然有效。
  
 
来源:贺利氏        
 
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