三星2021年量产3nm 工艺芯片[CSIA]
 
 
三星2021年量产3nm 工艺芯片
更新时间:2019/9/12 11:51:35  
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三星近日在日本举行的“三星晶圆代工论坛”(SFF)上,公布了其新一代工艺的进展,3nm工艺预计2021年量产。
  
  据悉在3nm节点上,三星将从FinFET晶体管转向GAA环绕栅极晶体管工艺。GAA晶体管,三星称之为3GAE工艺。
  
  基于全新的GAA晶体管结构,三星通过使用纳米片设备制造出了MBCFET(Multi-Bridge-ChannelFET,多桥-通道场效应管)。三星称,该技术可以显著增强晶体管性能,并取代FinFET晶体管技术。而且,MBCFET还兼容现有的FinFET制造工艺的技术及设备,从而加速工艺开发及生产。
  
  三星称,与现在的7nm工艺相比,3nm工艺可将核心面积减少45%,功耗降低50%,性能提升35%。
  
  今年4月,三星在其韩国华城的S3Line工厂开始量产7nm芯片。
  
 
来源:大半导体产业网        
 
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